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  大家好,来(lái)看一则突(tū)发(fā)消息。

  美光公(gōng)司在华销售的产品未(wèi)通过网络安(ān)全审(shěn)查

  据网信办消息,日前,网络安全审查(chá)办公室依法(fǎ)对美光公司(sī)在华销售产品进行了(le)网络安全审查。

  审查(chá)发现,美光公司产品(pǐn)存在较严重(zhòng)网络安全问(wèn)题隐(yǐn)患,对我(wǒ)国(guó)关键信(xìn)息基础设施供应链造成(chéng)重大安全风险,影响我国国家安全。为此,网(wǎng)络安全审查办公室依法作出不予通过网(wǎng)络安(ān)全审查的结论。按照《网络安全法》等(děng)法律法规(guī),我国内关键信息(xī)基础设施的运营者应(yīng)停止采(cǎi)购美光(guāng)公(gōng)司产品。

  此次对美光公司产(chǎn)品进行网络(luò)安全(quán)审查,目的是防(fáng)范(fàn)产品网络安全问题(tí)危(wēi)害国家关(guān)键信息基础设施安(ān)全(quán),是(shì)维(wéi)护国家安全的必要措(cuò)施。中国(guó)坚定推进高水平对外开放,只(zhǐ)要遵守中国法(fǎ)律法规要求,欢迎(yíng)各(gè)国企(qǐ)业(yè)、各类平台产品服务(wù)进(jìn)入中国市幼儿园晨间谈话内容有哪些小班,幼儿园晨间谈话内容有哪些中班场。

  半导体突发!中国出手:停止(zhǐ)采购!

  3月31日,中(zhōng)国网信(xìn)网发文称(chēng),为保障关(guān)键信(xìn)息基础设施供应(yīng)链安全(quán),防(fáng)范产品问(wèn)题隐(yǐn)患造成网络安全风险(xiǎn),维护国(guó)家(jiā)安(ān)全,依据《中华(huá)人民共和(hé)国(guó)国家安(ān)全法(fǎ)》《中华人民共和国网络安全法》,网络安全审查(chá)办公室按(àn)照(zhào)《网络(luò)安全审查办法》,对美(měi)光(guāng)公司(Micron)在华销售的(de)产品实施网络安(ān)全审查。

  半(bàn)导体(tǐ)突发!中(zhōng)国(guó)出手:停止采购!

  美光是美国的存(cún)储芯片行业(yè)龙头,也是(shì)全球存(cún)储(chǔ)芯片巨头之一,2022年收入(rù)来自中国市场收入从此前高(gāo)峰57%降至2022年约11%。根据市场咨询机构 Omdia(IHS Markit)统计,2021 年三(sān)星(xīng)电子、 铠侠、西部数据、SK 海力(lì)士、美光、Solidigm 在全球(qi幼儿园晨间谈话内容有哪些小班,幼儿园晨间谈话内容有哪些中班ú) NAND Flash (闪(shǎn)存)市场(chǎng)份额约为 96.76%,三星电(diàn)子、 SK 海(hǎi)力士、美光在全球 DRAM (内(nèi)存(cún))市场(chǎng)份额约为 94.35%。

  A股(gǔ)上市公司(sī)中,江(jiāng)波龙(lóng)、佰维存储等公司(sī)披露过美光等国际存储厂(chǎng)商为公司供应(yīng)商。

  美光在(zài)江波龙(lóng)采购占比(bǐ)已经显(xiǎn)著(zhù)下降,至少(shǎo)已经不是主要大供应商。

  公告显(xiǎn)示(shì), 2021年美光位列江波(bō)龙(lóng)第(dì)一大存储晶(jīng)圆(yuán)供应商,采购约(yuē)31亿元,占比33.52%;2022年(nián),江(jiāng)波龙(lóng)第一大(dà)、第二(èr)大和第三大供应商采(cǎi)购金额占(zhàn)比分别是26.28%、22.85%和(hé)5.76%。

  目前(qián)江波龙已经(jīng)在存(cún)储(chǔ)产业链上下游建立国内外广泛合作。2022年年报显示,江波龙与三星、美光、西部数据等主(zhǔ)要存(cún)储晶圆原厂签署了长期合(hé)约(yuē),确(què)保(bǎo)存储晶圆供应的(de)稳(wěn)定(dìng)性,巩固公司在下游(yóu)市场的供应优势(shì),公司也与国内(nèi)国产存储晶圆原厂武(wǔ)汉(hàn)长江存储、合(hé)肥(féi)长鑫(xīn)保持良好的(de)合作。

  有券商此(cǐ)前就分析(xī),如果美光在中(zhōng)国区销售(shòu)受到限制,或将导(dǎo)致(zhì)下游客户(hù)转(zhuǎn)而采(cǎi)购(gòu)国外三星、 SK海力士,国内长江存(cún)储、长鑫(xīn)存储等竞对产品

  分析称,长存、长鑫(xīn)的上(shàng)游(yóu)设备厂(chǎng)或从中受益。存(cún)储器(qì)的生(shēng)产(chǎn)已(yǐ)经演(yǎn)进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺。另(lìng)外NAND Flash现在已(yǐ)经进入3D NAND时(shí)代,2 维到3维的结(jié)构转变使刻蚀和薄膜成为(wèi)最关键(jiàn)、最大量的加(jiā)工(gōng)设(shè)备。3D NAND每层(céng)均需要经过薄膜沉积(jī)工(gōng)艺步(bù)骤,同时刻蚀目前(qián)前沿要刻到 60:1的深孔,未来可能会更深的孔(kǒng)或者沟槽,催生(shēng)更多设(shè)备(bèi)需(xū)求(qiú)。据东京电子披露,薄(báo)膜沉积设备(bèi)及刻蚀占3D NAND产线资本(běn)开支合计为(wèi)75%。自长江存储被加(jiā)入美国限制(zhì)名单,设备国(guó)产化进(jìn)程(chéng)加速,看好拓荆科技(薄(báo)膜沉积)等相关公司份额提升,以及存储业务占比较(jiào)高的(de)华海清科(CMP)、盛美上海(清洗)等收(shōu)入增长。

 

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